乾曜光學首臺193nm深紫外激光干涉儀于2025年7月15日成功下線，技術指標達到測量精度RMS優于2nm，RMS波前重復性優于0.2nm。繼德國、美國和日本之后，中國具有了自主的193nm深紫外激光干涉儀。
這一成果凝聚著多方的付出和支持：有客戶的信任，在乾曜光學沒有193nm干涉儀研制經驗的情況下下達訂單，提供技術支持并協調供應商資源；也有供應商合作伙伴的通力配合，為了壓縮節點時間特事特辦，就像警察護送趕考的學子一樣，一路綠燈暢行；更有乾曜光學團隊的極致創新和精工細作，從方案設計、零件制造、組裝測試到品質保證，每一個環節都精益求精。
當日，項目團隊成員齊聚一堂，共同見證了這一激動時刻，分享成功的喜悅并總結項目經驗。
楊毓總經理在掌聲中隆重宣布：“乾曜光學首臺193nm深紫外激光干涉儀成功下線！”簡短話語中，包含著團隊對自主創新的執著和自豪。
技術總監祝沛：“從266nm到193nm，看似只是波長的縮短，實則是從‘有參考’到‘全自主’的質變。深紫外波段的未知性，讓每一步設計都如履薄冰。但團隊用兩周時間，把無數‘可能失敗’變成了‘必然成功’。這不僅是一臺設備的下線，更是乾曜技術實力的證明——中國也能造出可交付、可信賴的193nm深紫外激光干涉儀。過程的艱辛無需多言，但這份突破，值得我們所有人驕傲。”
儀器制造部王萬：“我們負責設備裝配時，最初完全是‘摸著石頭過河’。對比633nm干涉儀光學穿軸一次成功，193nm的光學穿軸我們調試不下50次，光路校準反復調整，每一次微調都關乎最終精度。”
采購計劃部楊敏：“193nm項目的物料堪稱‘史上最復雜’——新品多、工序繁、交期緊。但采購從不是孤軍奮戰：楊心、劉云超等同事與我們一道，駐場供應商車間逐項盯進度、查質量，最終確保所有物料按時達標。正是這種‘擰成一股繩’的協作，為設備下線筑牢了根基。”
技術中心周浩：“這是我首次接觸深紫外項目，從一臉茫然到參與其中，見證了太多次‘山重水復’后的‘柳暗花明’。無數次試錯雖累，但看到設備成功運行的那一刻，所有付出都有了意義。能參與這樣的突破，我無比自豪。”
193nm深紫外激光干涉儀團隊合照
193nm深紫外激光干涉儀的下線，是乾曜光學的里程碑，更是中國自主創新的縮影。以此次突破為起點，乾曜人將繼續以協作鑄根基、以創新拓前路，在高端光學領域書寫更多“中國智造”的傳奇。
晶圓缺陷檢測物鏡“細微之處見真章”
晶圓缺陷檢測設備中的物鏡是現代光學工程的巔峰之作，它集成了超高NA、極短波長、極致像差校正、大視場、高透射率、超低雜散光、優異穩定性等尖端技術于一身。其設計和制造難度極高，成本也非常昂貴。這些苛刻的光學技術要求的唯一目標就是：在晶圓高速掃描過程中，穩定地提供超高分辨率、高對比度、低噪聲的光學圖像，從而可靠地檢測出尺寸微小、對比度低的各種致命缺陷，確保先進半導體制造的良率和可靠性。
素繪193深紫外激光干涉儀“超凡脫俗”
使用193nm深紫外激光干涉儀測量有圖晶圓缺陷檢測物鏡的光學波像差，是評估其性能極限（如 RMS優于2nm）的核心技術手段。這種測量直接關聯到物鏡的分辨率、對比度和缺陷檢測靈敏度。
乾曜光學素繪193nm深紫外激光干涉儀是一種等厚干涉原理的高精度波前測量設備，其核心原理是通過參考光與被測光形成的干涉條紋分析波前畸變。 乾曜光學團隊解決了一系列測量193nm物鏡波像差的關鍵挑戰。
波長匹配性
挑戰：物鏡設計優化于193nm，必須在工作波長下測量才能反映真實性能（色差、材料色散、鍍膜特性）。
技術：使用193nm激光器作為光源。這是菲索干涉儀的核心，要求激光具有極高的空間相干性、時間相干性、波長穩定性和功率穩定性。
超高數值孔徑（NA）測量
挑戰：晶圓檢測物鏡NA極高甚至達到0.98，傳統干涉儀難以在如此大角度下保持高精度。
技術：專用NA0.95和NA0.98高反球面反射鏡，反射率大于50%@193nm，全口徑面形誤差PVr優于31.64nm。
極低像差測量精度
挑戰：要求測量精度RMS優于2nm甚至更高。
快速移相干涉技術（FPSI）： 通過精密移相器（壓電陶瓷驅動）引入已知相位變化（如0°, 90°, 180°, 270°），采集多幀干涉圖，利用算法（如5步法、13步法）精確計算每個像素點的波前相位，精度可達RMS優于2nm或更高。
先進波前重構算法
如Zernike多項式擬合、區域法重建，精確分離和量化各種像差（球差、彗差、像散等）。
環境控制
挑戰：193nm光易被空氣吸收（氧氣、水汽），且熱變形、振動、氣流對納米級測量是災難性的。
真空或充純氮（N2）環境： 整個干涉光路置于真空腔或持續通高純氮氣的密封環境中，消除空氣吸收和折射率擾動。
超精密恒溫系統： 控制環境溫度在±0.02°C甚至更優。
雜散光抑制
挑戰：193nm光易在光學表面和機械結構上產生散射光，污染干涉圖。
低散射鍍膜： 193nm專用增透膜（AR）和高反膜（HR）。
潔凈室環境： 防止灰塵成為散射源。
參考鏡校準
挑戰：參考鏡本身的誤差會直接傳遞到測量結果中。
絕對校準技術：使用如“三平面旋轉法”、“標準球隨機旋轉法”和“雙球面旋轉互檢法”等絕對測量技術標定標準鏡自身面形誤差，并在后續測量中扣除。
